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联合微电子中心发布国内首个自主开发180nm全套硅光工艺PDK

时间:2020-06-07 16:32

集微网消息,5月30日,联合微电子中心(CUMEC)在重庆发布“180nm全套硅光工艺 PDK(process design kit)”。

180nm 全套硅光工艺PDK的发布标志着联合微电子中心具备硅基光电子领域全流程自主工艺能力,并正式开始向全球提供硅光芯片流片服务。

CUMEC公司是中国电科和重庆市政府共同打造的国家级国际化集成电路新型研发机构,2018年10月注册成立正式落户西永微电园。

据上游新闻报道,在CUMEC公司180nm硅光成套工艺发布会上,CUMEC公司执行董事兼总经理韩建忠博士介绍,CUMEC公司秉承开放式创新平台的建设理念,团队由来自海内外的有志者汇聚而成, 2019年9月即实现8英寸硅基光电子技术工艺平台的通线,仅仅几个月自主开发的硅光工艺就取得了非常好的水平。

硅基光电子芯片是未来信息产业发展的前沿技术,也是未来集成电路发展的重要趋势之一。目前,英特尔、IBM、华为等知名公司都在这一领域布局。

着眼于此,CUMEC公司围绕高端工艺开发和产品核心IP协同设计的定位,计划投资超百亿元,构建硅基光电子、异质异构三维集成、锗硅射频等高端工艺研发平台,在3-5年逐步建成国际主流的8英寸先导特色工艺以及国际一流的12英寸高端特色工艺平台。(校对/诺离)